半導体ウェーハパターン検査装置 NGR3520
設計データとSEM画像との比較を行う「Die to Database アルゴリズム」の採用により、先端半導体デバイス製造におけるシステマティックな問題を迅速に解決します。
お知らせ
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2018年10月29日
ニュース
NEW !ISO9001の認証を取得しました
- 2018年09月03日 ニュース SEMICON TAIWAN2018に出展します
- 2018年09月03日 ニュース 韓国子会社移転のご案内
- 2018年08月16日 関連論文 Quantitative approach for optimizing e-beam condition of photoresist
- 2018年08月16日 関連論文 Overlay of multiframe SEM images including nonlinear field distortions
